一站式薄膜制備與加工！nanoPVD、高溫退火、等離子刻蝕助力高效實驗

更新時間：2023-01-29

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Moorfield Nanotechnology公司是英國著名儀器研發公司，成立28年來專注于高質量的薄膜生長與加工技術，擁有雄厚的技術實力，推出的多種高性能設備受到科研與工業領域的廣泛好評。Moorfield公司根據材料研究領域的需求，推出了一系列高精度薄膜制備與加工系產品。產品涵蓋了薄膜制備（電子束蒸發、熱蒸發、磁控濺射）、熱處理、等離子刻蝕等多個薄膜材料研究的環節。Moorfield Nanotechnology功能強大的落地式設備可以滿足多種科研與生產的需求。近年來更是推出了體積小巧的臺式設備，性能可以和大型設備相媲美，更加節省實驗室空間，實驗更加高效。

在與Quantum Design中國子公司正式合作進入中國市場的短短三年內已交付使用超過二十套設備。用戶包含清華大學、浙江大學、西湖大學、大連理工大學、國家電網、中國科學院深圳先進技術研究院……等著名高校、國企、科研院所以及半導體行業的上市公司。跨入2024年，將有更多的設備交付于復旦大學、遼寧材料實驗室等單位。

臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD

Moorfield Nanotechnology傾力打造的一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統。該系統雖然體積小巧，但是功能出色、配置齊全。該型號的推出是為了解決傳統臺式設備功能簡單不能滿足學術研究的問題。

? nanoPVD-S10A磁控濺射系統：最多三靶位，可實現直流、射頻濺射，共濺射，可通Ar、O₂、N₂氣，樣品臺可加熱，最大支持8英寸樣品，包含晶振膜厚標定系統，生長過程高精度氛圍控制，觸屏自動化控制系統，自動安全鎖。

? nanoPVD-T15A熱蒸發系統：可實現金屬熱蒸發，有機物低溫熱蒸發，配置靈活，包含晶振膜厚標定系統，生長過程高精度氛圍控制，觸屏自動化控制系統，自動安全鎖。

? nanoPVD-ST15A濺射&熱蒸發系統：磁控濺射和熱蒸發在同一系統中靈活配置。滿足不同需求。

臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD-ST15A

臺式超精準二維材料等離子軟刻蝕系統—nanoETCH

石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度，而目前成熟的傳統半導體刻蝕系統在面對單層材料的高精度刻蝕需求時顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統功率較大、導致二維材料器件性能被破壞的問題。Moorfield Nanotechnology與曼徹斯特大學諾獎得主Andre Geim課題組聯合研發了臺式超精準二維材料等離子軟刻蝕系統- nanoETCH。

? 30W 高精度射頻源，控制精度達到10 mW

? MFC流量計精準控制刻蝕氣壓

? 3英寸、4英寸、6英寸樣品臺

? 全自動觸屏操作系統

? 設定、保存多個刻蝕程序

? O₂、氟化物氣體選項可對二維材料、傳統硅基材料等進行反應刻蝕。

臺式超精準二維材料等離子軟刻蝕系統—nanoETCH

臺式精準氣氛\壓力控制高溫退火系統—ANNEAL

Moorfield Nanotechnology專門為制備高質量的樣品而推出的臺式精準氣氛\壓力控制高溫退火系統，該系統可以滿足從高真空到各種氣氛的退火需求。對氣壓和溫度都能進行高精度控制，該系統不僅僅是普通的退火系統更是二維材料、基片等進行精確可控熱處理的重要保障。該系統突破了傳統箱式、管式爐的粗放退火方式，開創了高精度退火的新篇章。

? 石英燈加熱：溫度高600℃，可兼容4英寸、6英寸樣品臺，可兼容多數氣氛。

? CCC碳化物加熱：500℃以上需求的常選方案，溫度可達1000℃，適用于非氧氣環境。

? SiC保護的碳材料加熱：兼容氧氣氛圍與多數氣體氛圍的增強型加熱材料。

? 兼容惰性氣體、氧氣、氫氣等多種氣氛，具有自動尾氣稀釋方案。