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當前位置:首頁新聞資訊8月31日《實驗室臺式X射線發射譜(XES)的技術發展與前沿應用》

8月31日《實驗室臺式X射線發射譜(XES)的技術發展與前沿應用》

更新時間:2020-08-27點擊次數:2733

報告簡介:

X射線發射譜(XES)技術主要涉及種二次光電子過程,通過調制入射 X 射線的能量以及通過高分辨譜儀收集器收集熒光信號,可以獲得各種 X 射線發射譜。相比于常規 X射線吸精細結構譜(XAFS),XES譜圖具有更高的能量分辨率,和 XAFS 方法相輔相成,從而獲取全軌道的電子結構以及原子結構信息。但由于通常依賴于同步輻射X射線光源,大大限制了其在各域的大范圍應用。為了突破這限制,美國easyXAFS公司研發出了新的臺式XES(XAFS300+)。該裝置無需同步輻射光源,在常規實驗室環境中即可實現XAFS和XES雙功能測試。本報告將結合近年來實驗室臺式XES譜儀的發展技術,及研究組的新實驗結果,詳細闡述臺式XES的基本原理、技術發展及在多域的些應用案例,后展望其在日常實驗室研究中的巨大潛力。

 

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報告時間:

2021年8月31日 14:00

主講人:


張科  博士

同步輻射及應用業博士,畢業于中國科學技術大學國家同步輻射實驗室,上海交通大學化學化工學院博士后。主要研究方向為無機納米功能材料的同步輻射表征及在能源存儲和轉換域的應用。目前,就職于Quantum Design中國子公司,從事表面光譜相關設備的應用開發、技術支持及市場拓展等業務。

 

技術線上論壇:

//qd-china.com/zh/n/2004111065734

 

 

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