薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術現已被廣泛應用于半導體、光電、太陽能等域的研發以及成產當中，這些技術包括：

等離子體增強化學氣相沉積反應器（PECVD Reactors）

脈沖激光沉積系統（Pulsed Laser Deposition）

磁控濺射系統（Sputter Deposition System）

電子束沉積系統（E-beam Deposition Systems）

Quantum Design 引進多家真空等離子生產商設備，產品線涵蓋通用系統到定制設備，來滿足中國科研機構的不同需求，適合實驗室及工業使用。

等離子體增強化學氣相沉積系統 (PECVD)

應用域：

SiO2、Si3N4、非晶硅、類金剛石薄膜、光學薄膜、介質膜等制備
太陽能電池研發
石墨烯制備
碳納米管選擇性制備
等離子誘導表面改性
等離子清洗（NF3）
反應離子蝕刻

NPE 系列：標準化射頻等離子體怎強化學氣相沉積系統（RF-PECVD reactors）

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FLARION 系列：射頻等離子體增強化學氣相沉積系統，高開放性、可擴展定制

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MIRENIQUE 系列：微波-等離子體化學氣相沉積系統（MW-PECVD reactors），高開放性、可擴展定制

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脈沖激光沉積系統 （Pulsed Laser Deposition systems）

應用域：

高溫超導材料研發
鐵電材料
鐵磁材料
光學材料
電介材料
硬質薄膜
透明導電氧化物(TCO)沉積，如ITO,ZnO
功能陶瓷薄膜
納米結構生長
聚合物薄膜

GLAZE 系列：中小型，高擴展性制式系統

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JUV 系列：大中型、復雜定制PLD系統

歡迎垂詢具體技術細節。

MAGNION 系列：磁控管陰和磁控濺射系統（sputtering cathodes and PVD deposition systems）

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FLOCON 系列：電腦控制氣體管理系統 （computer controlled gas management systems）

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此外，Plasmionique公司還可以定制：電子束沉積系統（E-beam Deposition Systems）

混合沉積系統（Hybrid Deposition Reactors）

等離子 離子注入系統 （Plasma Ion Implanter）

分子束外延系統 （MBE Systems）

等離子、反應離子、深反應離子蝕刻反應器（PE, RIE. DRIE Reactors）