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當前位置:首頁產品中心材料制備/樣品合成薄膜、顆粒、膠體等制備薄膜真空沉積系統

薄膜真空沉積系統

產品簡介

薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術現已被廣泛應用于半導體、光電、太陽能等域的研發以及成產當中,這些技術包括:
等離子體增強化學氣相沉積反應器(PECVD Reactors)
脈沖激光沉積系統(Pulsed Laser Deposition)
磁控濺射系統(Sputter Deposition System)
電子束沉積系統(E-beam Deposition System)

產品型號:
更新時間:2023-04-18
廠商性質:生產廠家
訪問量:2599
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薄膜真空沉積系統

薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術現已被廣泛應用于半導體、光電、太陽能等域的研發以及成產當中,這些技術包括:

等離子體增強化學氣相沉積反應器(PECVD Reactors)

脈沖激光沉積系統(Pulsed Laser Deposition)

磁控濺射系統(Sputter Deposition System)

電子束沉積系統(E-beam Deposition Systems)

 

 

Quantum Design 引進多家真空等離子生產商設備,產品線涵蓋通用系統到定制設備,來滿足中國科研機構的不同需求,適合實驗室及工業使用。

 

等離子體增強化學氣相沉積系統 (PECVD)


應用域:

SiO2、Si3N4、非晶硅、類金剛石薄膜、光學薄膜、介質膜等制備
太陽能電池研發
石墨烯制備
碳納米管選擇性制備
等離子誘導表面改性
等離子清洗(NF3)
反應離子蝕刻

NPE 系列:標準化射頻等離子體怎強化學氣相沉積系統(RF-PECVD reactors

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FLARION 系列:射頻等離子體增強化學氣相沉積系統,高開放性、可擴展定制

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MIRENIQUE 系列微波-等離子體化學氣相沉積系統(MW-PECVD reactors),高開放性、可擴展定制

 

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脈沖激光沉積系統 (Pulsed Laser Deposition systems

應用域:


高溫超導材料研發
鐵電材料
鐵磁材料
光學材料
電介材料
硬質薄膜
透明導電氧化物(TCO)沉積,如ITO,ZnO
功能陶瓷薄膜
納米結構生長
聚合物薄膜

GLAZE 系列中小型,高擴展性制式系統

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JUV 系列:大中型、復雜定制PLD系統

歡迎垂詢具體技術細節。


MAGNION 系列磁控管陰和磁控濺射系統(sputtering cathodes and PVD deposition systems

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FLOCON 系列電腦控制氣體管理系統 (computer controlled gas management systems

資料下載

此外,Plasmionique公司還可以定制:電子束沉積系統(E-beam Deposition Systems

混合沉積系統(Hybrid Deposition Reactors

等離子 離子注入系統 (Plasma Ion Implanter

分子束外延系統 (MBE Systems

等離子、反應離子、深反應離子蝕刻反應器(PE, RIE. DRIE Reactors

 

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