高精度光學浮區法單晶爐

       Quantum Design Japan公司推出的高溫光學浮區法單晶爐，采用鍍金雙面鏡、高反射曲面設計，高溫度可達2100℃-2200℃，系統采用高效冷卻節能設計（不需要額外冷卻系統），穩定的電源輸出保證了燈絲的恒定加熱功率......

應用域：

■  高溫超導體

■  介電和磁性材料

■  金屬間化合物

■  半導體/光學晶體/寶石

產品點：

■  占地空間小，操作簡單，易于上手，立支撐設計

■  鍍金雙面高效反射鏡，加熱效率更高

■  可實現溫度達2150°C

■  穩定的電源

■  內置閉循環冷卻系統，無需外部水冷裝置

■  采用商業化標準鹵素燈

       光學浮區法（垂直區熔法）也可以說是種垂直的區熔法。在生長裝置中，在生長的晶體和多晶棒之間有段靠光學聚焦加熱的熔區，該熔區有表面張力所支持。熔區自上而下或自下而上移動，以完成結晶過程。

       浮區法的主要點是不需要坩堝，也由于加熱不受坩堝熔點限制，可以生長熔點*材料。生長出的晶體沿軸向有較小的組分不均勻性在生長過程中容易觀察等。浮區法晶體生長過程中，熔區的穩定是靠表面張力與重力的平衡來保持，因此，材料要有較大的表面張力和較小的熔態密度。浮區法對加熱技術和機械傳動裝置的要求都比較嚴格。

鏡面系統

發表文章

1. High quality(InNb)0.1Ti0.9O2 single crystal grown using optical floating zone method, Journal of Crystal Growth 446(2016)74–78.

2. 光學浮區法生長摻銦氧化鎵單晶及其性能, 硅酸鹽學報 Vol. 45，No. 4，April，2017，P548-P552.

3. Ultralow-temperature heat transport in the quantum spin liquid candidate Ca10Cr7O28 with a bilayer kagome lattice, PHYSICAL REVIEW B 97, 104413 (2018).

用戶單位

國內合作用戶，排名不分后