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產品中心材料制備/樣品合成薄膜、顆粒、膠體等制備PLD脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統
產品簡介
脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統（NEW）等由美國BlueWave生產，可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供電子束蒸發、熱蒸發、反應濺射、熱絲化學氣相沉積（HFCVD）、熱化學氣相沉積系統（TCVD）等設備。
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 | 薄膜制備* |
BlueWave是家著名的美國半導體設備、材料生產商。BlueWave提供多種薄膜制備系統，包括脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸發、熱蒸發、反應濺射、熱絲化學氣相沉積(HFCVD)、熱化學氣相沉積系統(TCVD)。這些系統是理想的薄膜與涂層合成設備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關系統配件，例如基片加熱裝置、原位監測工具。此外，BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。
1、脈沖激光沉積系統
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產品點：
•電拋光多空不銹鋼超高真空腔體 •可集成熱蒸發源或濺射源 •可旋轉的耐氧化基片加熱臺 | •流量計或針閥準確控制氣體流量 •標準真空計 •干泵與渦輪真空泵 •可選配不銹鋼快速進樣室 | •可選配基片-靶材距離自動控制系統 •是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的設備 |
2、物理氣相沉積系統（Physical Vapor Deposition Plus）
產品點 •立襯底加熱，可旋轉 •多量程氣體流量控制器 •標準氣壓計 | •機械、分子、冷凝真空泵 •襯底和源距離可控 •可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜 |  |
3、熱化學氣相沉積系統（TCVD）
•高溫石英管反應器設計 •溫度范圍：室溫到1100度 •多路氣體準確控制 •標準氣壓計 •易于操作 |
| •可配機械泵實現低壓TCVD •可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜 •液體前驅體噴頭 •2英寸超大*溫度均勻區 |
4、熱絲化學氣相沉積系統（HFCVD）
產品點： •水冷不銹鋼超高真空腔 •熱絲易安裝、更換 •4個不同量程氣體控制器 •標準氣壓計 •襯底與熱絲距離可調節 •2英寸襯底加熱、可旋轉 •*制備金剛石和石墨烯 |  |
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